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氮化硅陶瓷是一种烧结时不收缩的无机材料。它是用硅粉作原料，先用通常成型的方法做成所需的形状，在氮气中及１２００℃的高温下进行初步氮化，使其中一部分硅粉与氮反应生成氮化硅，然后在１３５０℃～１４５０℃的高温炉中进行第二次氮化，反应成氮化硅。用热压烧结法可制得达到理论密度９９％的氮化硅。 在室温下 Si3N4 陶瓷的导热率范围在 10 到 162 W.m -1.K -1 之间。
分子式：Si3N4
相对分子质量：140.28
颜色：灰色、灰黑色
晶系：六方晶系。晶体呈六面体
密度：3.44 g/cm3
莫氏硬度：9~9.5
熔点：1900℃（加压下）。通常在常压下 1900℃分解
比热容：0.71J/(g·K)
热导率：16.7W/(m·K)
弹性模量：28420~46060MPa
耐压强度为：490MPa（反应烧结的）
溶解度：不溶于水。溶于氢氟酸。
氧化温度：在空气中开始氧化的温度 1300~1400℃
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